Prostorski izhod 780 nm enofrekvenčni laser Predstavljena slika

Enofrekvenčni laser s prostorsko močjo 780 nm

Model:

Kratek opis:

Da bi izpolnili zahteve atomske fizike in kvantne fizike, ki temelji na atomu Rb, je skupina Erbium razvila vesoljski izhodni 780 nm laser z največjo močjo 15 W z uporabo tehnike podvajanja frekvence.Zaradi rokovanja, nizkega odnašanja, antivibracije in druge odlične okoljske prilagodljivosti je bil EFA-SSHG-780nm uporabljen v naših laboratorijskih poskusih atomskega interferometra Rb in je bil več mesecev frekvenčno stabiliziran z nasičenim absorpcijskim spektrom.

pridobi ponudbo Prenesi

Tehnični parameter

Oznake izdelkov

Lastnosti izdelka

█Ozka širina črte <20kHz (kot nizka kot 2kHz)

█ Izbirni hrup nizke intenzivnosti (RIN<-130dBc/Hz@100kHz)

█ Velika moč (15 W)

█ Odlična kakovost žarka (M² <1,1)

█ Stabilnost moči (PP<1%@25℃,<2%@15-35℃)

█ Stabilnost okolja (15-35 ℃, 0,5 Grms (0-200 Hz))

█ Rbatom

█ Magiclightlattice

Tehnični indikatorji

Model	EFA-SSHG-780-X (en izhod)					EFA-SSHG-780-XX (dvokanalni izhod)
Centralna valovna dolžina¹	780,24 nm
Moč	15W	7W	2W	0,2 W		3W	400 mW
						3W	400 mW
Frekvenčna razlika med dvema kanaloma						0–1,2 GHz (laser z enim semenom)
Laserlinewidth	< 20 kHz					< 4kHz (izbirno)
Brezplačno območje uglaševanja²	0,4 nm
Območje hitre nastavitve²	10 GHz
Hitra nastavitev pasovne širine²	> 10 kHz
Stabilnost frekvence²	100 MHz pri 25 ℃
Operativno okolje	Temperatura: 15-35 ℃ Vibracija: 0,5 Grms (0~200Hz)
RMS integracija hrupa relativne intenzivnosti (10Hz-10MHz)	<0,2 %				Možnost nizkega hrupa³ Integracijska vrednost RMS: <0,05 % (10Hz-10 MHz)
Kakovost žarka	TEMₒₒ, M² <1,1
Polarizacija	Linearna polarizacija, > 100:1
Hlajenje	Zračno hlajenje/vodno hlajenje
Disipacija moči	<200 W
1 Lahko se kostumira；Razpon po meri 765-790 nm 2 Odvisno od semenskega laserja je semenski laser lahko zunanji 3 Tiho seme je mogoče izbrati za malo hrupa